Intel'in 10 nm Hedefi

Konu: Intel'in 10 nm Hedefi Çarş. Tem. 30, 2008 12:22 am

Bir zamanlar 100 nanometrenin üzerinde olan silikon üretim işlemi, 60 nm seviyesine düşmüşken yeni ufuk çizgisini Intel belirledi: 10 nanometre. Peki ne zaman?

Teknoloji geliştikçe daha verimli güç tüketimi, daha az ısınma ve daha düşük maliyet gibi sebeplerden sürekli küçülen silikon üretim işlemi, 60 nm ve hatta bazı yongalarda 45 nm seviyesine inmiş durumda. Intel ise, Moore kuralını esas alarak yaptığı planlamalarda 10 nanometre işlem sürecine kadar inmeyi hedefliyor.

Bir Zamanlar 100 nm Hayaldi

Intel'den Pat Gelsinger, önümüzdeki 10 yıl içerisinde Intel yongaları 10 nanometre silikon işlem ile üretmeye başlayacaklarını öngördü. Bir zamanlar Intel'deki ekip arkadaşlarıyla birlikte 100 nm yongalar üretmenin hayalini kurduklarını söyleyen Gelsinger, Intel kurucuları Robert Noyce ve Gordon Moore'un ilk başladıklarında sadece altı element ile yonga ürettiklerini kaydetti.

Şimdilerde ise periyodik tabloda yer alan elementlerin neredeyse yarısını kullandıklarını belirten Gelsinger, 10 nm seviyesine erişebilmek için daha da fazla element eklenmesi gerektiğine dikkat çekti. Bakalım 10 yıl sonra Intel verdiği sözü tutabilecek mi.
__________________

» Intel'in 10 nm Hedefi